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【專利】申請(qǐng)專利有哪些誤區(qū)?

作者:行之知識(shí)產(chǎn)權(quán)   來(lái)源:   時(shí)間:2020-06-23

 

  隨著近幾年國(guó)家對(duì)知識(shí)產(chǎn)權(quán)的重視,國(guó)內(nèi)的企業(yè)專利申請(qǐng)量明顯大幅度增加,但是不少企業(yè)在專利申請(qǐng)過(guò)程中仍存在誤區(qū)。
  誤區(qū)一 技術(shù)方案交待不清楚
  很多人提交的專利申請(qǐng)文件非常簡(jiǎn)單,有的甚至只有幾句話,技術(shù)方案完全沒(méi)有交待清楚,這給專利代理人制作正式專利申請(qǐng)文件帶來(lái)很大困難。
  在要求發(fā)明人提供更多的技術(shù)方案時(shí),他們會(huì)以技術(shù)保密為由回避。
  這些發(fā)明人其實(shí)就是沒(méi)有把握好保密與公開(kāi)的度。
  他們過(guò)度地要求保密,害怕多透露一點(diǎn)技術(shù)信息,而恰恰是這種“過(guò)度”忽視了技術(shù)方案交待不清楚,公開(kāi)不充分的問(wèn)題。
  誤區(qū)二 專利申請(qǐng)前不做任何檢索
  有些發(fā)明人提交的專利申請(qǐng)文件沒(méi)有做查新檢索,對(duì)技術(shù)方案的新穎性如何不確定。
  甚至根本不知道其技術(shù)方案有沒(méi)有公開(kāi)過(guò)或公開(kāi)使用過(guò),這也是一個(gè)非常普遍的現(xiàn)象。
  全世界范圍內(nèi)的任何文獻(xiàn)都可影響技術(shù)方案的新穎性。但在使用方面,只有國(guó)內(nèi)的使用才影響技術(shù)方案的新穎性。
  誤區(qū)三 先發(fā)表論文或成果鑒定再申請(qǐng)專利
  有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定,而沒(méi)有想到先申請(qǐng)專利保護(hù)。
  由于發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開(kāi)技術(shù)內(nèi)容,使專利申請(qǐng)失去新穎性而得不到保護(hù)。
  誤區(qū)四 對(duì)專利缺乏有效的管理
  有些企業(yè)申請(qǐng)了很多專利,但無(wú)專人管理。
  專利文件之間有的互相沖突,有的已無(wú)市場(chǎng)價(jià)值還在交納年費(fèi)。
  有的專利權(quán)已經(jīng)遭受侵犯但企業(yè)管理者對(duì)專利特征不了解,不能及時(shí)提起訴訟。
  誤區(qū)五 缺乏長(zhǎng)遠(yuǎn)的專利戰(zhàn)略規(guī)劃
  有計(jì)劃地實(shí)施專利戰(zhàn)略對(duì)企業(yè)來(lái)說(shuō)非常重要,可以避免時(shí)間和精力的浪費(fèi)。
  一些企業(yè)毫無(wú)目的的申請(qǐng)大量專利,結(jié)果導(dǎo)致授權(quán)率低,并產(chǎn)生大量的垃圾專利,浪費(fèi)時(shí)間和精力。
  一個(gè)企業(yè)應(yīng)該對(duì)自己行業(yè)內(nèi)的基本專利狀況及外圍專利狀況有十分明確的認(rèn)識(shí)。
  從而找到技術(shù)突破口,排除他人專利障礙,確立自己的專利優(yōu)勢(shì),贏得市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)。

 

標(biāo)簽: 專利申請(qǐng)

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